碳化硅生产设备

产业加速扩张之下，碳化硅设备成入局“香饽饽 ...

2022年12月15日设备端受掣肘由于碳化硅具有宽禁带宽度、高击穿电场、高热导率、高电子饱和速率及更高的抗辐射能力等优点，是高温、高压、大功率应用场合下极为理想的已认证账号 1 人赞同了该文章导读：近日中国电科公布一系列成果，显示在国产碳化硅（SiC）设备及器件上取得突破。图：中电科55所生产线 4月17日，中国电科宣布旗中国电科：国产碳化硅器件和设备取得突破 - 知乎碳化硅外延过程和硅基本上差不多，在温度设计以及设备的结构设计不太一样。在器件制备方面，由于材料的特殊性，器件过程的加工和硅不同的是，采用了高温的工艺，包括高技术碳化硅产业链条核心：外延技术 - 知乎

碳化硅产品的应用方向和生产过程 - 知乎

1、长晶长晶环节中，和单晶硅使用的提拉法工艺制备不同，碳化硅主要采用物理气相输运法（PVT，也称为改良的Lely法或籽晶升华法），高温化学气相沉积法（HTCVD）作为补充。核心步骤大致分为：碳化硅固体原料； 2021年7月21日碳化硅，第三代半导体时代的中国机会-5g通信、电动汽车等新兴产业对碳化硅材料将产生巨大需求，大力发展碳化硅产业，可引领带动原材料与设备两个千亿级碳化硅，第三代半导体时代的中国机会 - 新华网碳化硅外延设备碳化硅化学气相沉积外延设备碳化硅外延设备属半导体设备领域，占据第三代半导体产业链上游关键环节。我司碳化硅外延设备采用自主创新的结构设计，同时兼碳化硅外延设备_产品与技术_纳设智能官方网站 - Naso Tech